Máy phân tích nitơ vết trực tuyến LDetek LD8001-B2-C2-D2-E1-F2-G1 (Heli, 0 – 1 ppm/ 10 ppm/ 100 ppm, RS232)

Loại đầu dò: Đầu dò phát xạ plasma cho N₂

Dải đo cho N₂:

0 – 1 ppm, độ phân giải đến 10 ppb

0 – 10 ppm, độ phân giải đến 0.1 ppm

0 – 100 ppm, độ phân giải đến 1 ppm

Các dải đo khác có thể cấu hình được lên đến 5000 ppm

Tính năng tiêu chuẩn:

Thủ công hoặc tự động thay đổi dải (người dùng chọn)

Điều khiển bằng vi xử lý

Màn hình cảm ứng 7" HMDI TFT

Hệ thống tự chẩn đoán với cảnh báo tự động xử lý

Lịch sử cảnh báo

Quy trình hiệu chuẩn an toàn để tránh sai lệch

Ngõ ra tín hiệu số cho giám sát từ xa (toàn bộ tiếp điểm rơ le khô)

Trạng thái hệ thống (1 đầu ra)

Dải đo đang sử dụng (3 đầu ra cho mỗi tạp chất)

Hiệu chuẩn đang thực hiện (1 đầu ra)

Kết nối khí:

Mẫu: đầu nối nén 1/8"

Xả: đầu nối nén 1/8"

Khí hiệu chuẩn:

Zero: khí tinh khiết LDP1000 (Getter)

Span: 8.0 đến 9.5 ppm N₂ (phụ thuộc ứng dụng)

Yêu cầu lưu lượng mẫu: 75 đến 200 sccm

Nhiệt độ vận hành: 10 °C đến 45 °C

Nguồn cấp: 220 V

Độ chính xác: Tốt hơn ± 1% toàn dải

Độ trôi: < ± 1%

Thời gian đáp ứng: T90 < 10 giây

Dải áp suất mẫu vận hành: 3–30 psig (nếu yêu cầu áp suất mẫu thấp hơn, sử dụng thêm bơm khí tinh khiết)

Áp suất đầu ra: Áp suất khí quyển

Loại vỏ: Dạng rackmount 3U

Mức bảo vệ: IP20 theo tiêu chuẩn IEC 60529

Hoàn thiện vỏ: Sơn tĩnh điện màu RAL7030

Chứng nhận: Tuân thủ các chỉ thị EMC: IEC 61000-4-3: 2020, IEC 61000-4-6: 2013, IEC 61000-4-2: 2008, IEC 61000-4-4: 2012, IEC 61000-4-5: 2014 A1: 2017, IEC 61000-4-8: 2009, IEC 61000-4-11: 2020 cho khả năng miễn nhiễm & CISPR 32: 2015 A1: 2019, FCC Part 15, Subpart B: 2021, CISPR 32: 2015 A1: 2019, FCC Part 15, Subpart B: 2021 cho phát xạ.

Khối lượng: 29 lbs (13 kg)

Datasheet

Brochure

User Manual