Đăng ký nhận chiết khấu độc quyền, cập nhật giá sỉ và tin sản phẩm mới nhất ngay tại hộp thư của bạn.
Bằng cách đăng ký, bạn đồng ý với Điều khoản dịch vụ và Chính sách bảo mật của chúng tôi.
Kết nối trực tiếp với đội ngũ chuyên gia của chúng tôi
Khí mẫu: Argon thô
Đầu ra: Không có
Giao tiếp nối tiếp: Giao diện nối tiếp - Profibus
Hệ thống lấy mẫu tích hợp: Không có hệ thống lấy mẫu tích hợp
Zero Gas Free: C (Hệ thống Zero Gas Free)
Loại đầu dò: Đầu dò phát xạ plasma cho N₂
Dải đo cho N₂:
0 – 1 ppm, độ phân giải đến 10 ppb
0 – 10 ppm, độ phân giải đến 0.1 ppm
0 – 100 ppm, độ phân giải đến 1 ppm
Các dải đo khác có thể cấu hình được lên đến 5000 ppm
Tính năng tiêu chuẩn:
Thủ công hoặc tự động thay đổi dải (người dùng chọn)
Điều khiển bằng vi xử lý
Màn hình cảm ứng 7" HMDI TFT
Hệ thống tự chẩn đoán với cảnh báo tự động xử lý
Lịch sử cảnh báo
Quy trình hiệu chuẩn an toàn để tránh sai lệch
Ngõ ra tín hiệu số cho giám sát từ xa (toàn bộ tiếp điểm rơ le khô)
Trạng thái hệ thống (1 đầu ra)
Dải đo đang sử dụng (3 đầu ra cho mỗi tạp chất)
Hiệu chuẩn đang thực hiện (1 đầu ra)
Kết nối khí:
Mẫu: đầu nối nén 1/8"
Xả: đầu nối nén 1/8"
Khí hiệu chuẩn:
Zero: khí tinh khiết LDP1000 (Getter)
Span: 8.0 đến 9.5 ppm N₂ (phụ thuộc ứng dụng)
Yêu cầu lưu lượng mẫu: 75 đến 200 sccm
Nhiệt độ vận hành: 10 °C đến 45 °C
Nguồn cấp: 220 V
Độ chính xác: Tốt hơn ± 1% toàn dải
Độ trôi: < ± 1%
Thời gian đáp ứng: T90 < 10 giây
Dải áp suất mẫu vận hành: 3–30 psig (nếu yêu cầu áp suất mẫu thấp hơn, sử dụng thêm bơm khí tinh khiết)
Áp suất đầu ra: Áp suất khí quyển
Loại vỏ: Dạng rackmount 3U
Mức bảo vệ: IP20 theo tiêu chuẩn IEC 60529
Hoàn thiện vỏ: Sơn tĩnh điện màu RAL7030
Chứng nhận: Tuân thủ các chỉ thị EMC: IEC 61000-4-3: 2020, IEC 61000-4-6: 2013, IEC 61000-4-2: 2008, IEC 61000-4-4: 2012, IEC 61000-4-5: 2014 A1: 2017, IEC 61000-4-8: 2009, IEC 61000-4-11: 2020 cho khả năng miễn nhiễm & CISPR 32: 2015 A1: 2019, FCC Part 15, Subpart B: 2021, CISPR 32: 2015 A1: 2019, FCC Part 15, Subpart B: 2021 cho phát xạ.
Khối lượng: 29 lbs (13 kg)
