Nguồn Plasma Advanced Energy Rapid OX (500W ~ 6000W)

- Dải công suất Plasma: 500W ~ 6000W với khả năng cân bằng điện trong dải trở kháng nguồn điện
- Ứng dụng: Cung cấp khí từ xa làm sạch buồng hạ lưu, các quá trình ăn mòn phản ứng, và các qúa trình lắng đọng phản ứng
- Đánh lửa: 100 mTorr ~ 1 Torr Oxy và Ni-tơ lên đến 4 SLM (90% O2 và 10% N2)
- Tương thích hóa học: Thiết bị này được thiết kế để sử dụng với các loại khí như Ar, O2, H2, N2, F2, H2O, NF3 hoặc O2:CxFy
- Tiêu thụ: không tiêu thụ khi hoạt động O2 và N2
- Lưu lượng, pha loãng và áp suất:
Dải lưu lượng hoạt động thay đổi: 0.2 ~ 4 SLM O2 nguyên chất và O2 với 10% N2 khoảng giữa 100 mTorr  ~  4 Torr.
Các kết hợp áp suất/lưu lượng khác phải được nhà sản xuất duyệt trước khi sử dụng
- Tần số RF: 250 ~ 665 kHz
- Độ chính xác công suất: tham chiếu ở tải plasma +/- 5% hoặc 200 W, lấy giá trị lớn hơn
- Giới hạn tải hoạt động:
Công suất tối thiểu: 500 W
Công suất tối đa: 600W
Điện áp plasma tối đa: 325Vrms
Dòng điện plasma tối thiểu: 5Arms
Dòng điện sơ cấp tối đa: 120 Arms
- Kích thước:
35.3 cm (H) x 41.5 cm (W) x 39.2 cm (D)
14" (H) x 16.5" (W) x 15.5" (D)
- Trọng lượng: 37.6 kg (83 lb)